IEEE Transactions On Plasma Science
國際簡稱：IEEE T PLASMA SCI
Ieee Transactions On Plasma Science
SCIE
按雜志級別劃分： 中科院1區(qū) 中科院2區(qū) 中科院3區(qū) 中科院4區(qū)
- ISSN：0093-3813
- 創(chuàng)刊時間：1973
- 是否預(yù)警：否
- E-ISSN：1939-9375
- 出版地區(qū)：UNITED STATES
- 是否OA：未開放
- 出版語言：English
- 出版周期：Bimonthly
- 影響因子：1.3
- 出版商：Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
- 審稿周期： 約3.7個月
- CiteScore：3
- H-index：98
- 開源占比：0.0733
- 文章自引率：0.2
Ieee Transactions On Plasma Science雜志簡介
Ieee Transactions On Plasma Science是由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商主辦的物理與天體物理領(lǐng)域的專業(yè)學(xué)術(shù)期刊，自1973年創(chuàng)刊以來，一直以高質(zhì)量的內(nèi)容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號（ISSN：0093-3813，E-ISSN：1939-9375），出版周期Bimonthly，其出版地區(qū)設(shè)在UNITED STATES。該期刊的核心使命旨在推動物理與天體物理專業(yè)及PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS學(xué)科界的教育研究與實踐經(jīng)驗的交流，發(fā)表同行有創(chuàng)見的學(xué)術(shù)論文，提倡學(xué)術(shù)爭鳴，激發(fā)學(xué)術(shù)創(chuàng)新，開展國際間學(xué)術(shù)交流，為物理與天體物理領(lǐng)域的發(fā)展注入活力。
該期刊文章自引率0.2，開源內(nèi)容占比0.0733，出版撤稿占比0，OA被引用占比0.0011...，讀者群體主要包括物理與天體物理的專業(yè)人員，研究生、本科生以及物理與天體物理領(lǐng)域愛好者，這些讀者群體來自全球各地，具有廣泛的學(xué)術(shù)背景和興趣。Ieee Transactions On Plasma Science已被國際權(quán)威學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫“ SCIE（Science Citation Index Expanded） ”收錄，方便全球范圍內(nèi)的學(xué)者和研究人員檢索和引用，有助于推動PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS領(lǐng)域的研究進展和創(chuàng)新發(fā)展。
收錄信息
CiteScore（2024年最新版）
- CiteScore：3
- SJR：0.417
- SNIP：0.861
| 學(xué)科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 大類：Physics and Astronomy 小類：Nuclear and High Energy Physics | Q2 | 42 / 87 |
52% |
| 大類：Physics and Astronomy 小類：Condensed Matter Physics | Q3 | 247 / 434 |
43% |
CiteScore: 這一創(chuàng)新指標(biāo)力求提供更為全面且精確的期刊評估，打破了過去僅依賴單一指標(biāo)如影響因子的局限。它通過綜合廣泛的引用數(shù)據(jù)，跨越多個學(xué)科領(lǐng)域，從而確保了更高的透明度和開放性。作為Scopus中一系列期刊指標(biāo)的重要組成部分，包括SNIP（源文檔標(biāo)準化影響）、SJR（SCImago雜志排名）、引用文檔計數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標(biāo)，幫助研究者深入了解超過22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個指標(biāo)的詳細信息。
CiteScore分區(qū)值與影響因子值數(shù)據(jù)對比
Ieee Transactions On Plasma Science中科院分區(qū)表
中科院分區(qū) 2023年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 4區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū) 2022年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 3區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 3區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū) 2021年12月基礎(chǔ)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理 | 4區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū) 2021年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 3區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 3區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)表歷年分布趨勢圖
WOS期刊JCR分區(qū)（2023-2024年最新版）
| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q3 | 29 / 40 |
28.7% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q3 | 30 / 40 |
26.25% |
JCR（Journal Citation Reports）分區(qū)，也被稱為JCR期刊分區(qū)，是由湯森路透公司（現(xiàn)在屬于科睿唯安公司）制定的一種國際通用和公認的期刊分區(qū)標(biāo)準。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫，按照期刊的影響因子進行排序，按照類似等分的方式將期刊劃分為四個區(qū)：Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是，JCR分區(qū)的標(biāo)準與中科院JCR期刊分區(qū)（又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù)）存在不同之處。例如，兩者的分區(qū)數(shù)量不同，JCR分為四個區(qū)，而中科院分區(qū)則分為176個學(xué)科，每個學(xué)科又按照影響因子高低分為四個區(qū)。此外，兩者的影響因子取值范圍也存在差異。
歷年發(fā)文數(shù)據(jù)
| 年份 | 年發(fā)文量 |
| 2014 | 763 |
| 2015 | 574 |
| 2016 | 470 |
| 2017 | 451 |
| 2018 | 561 |
| 2019 | 714 |
| 2020 | 559 |
| 2021 | 515 |
| 2022 | 645 |
| 2023 | 419 |
期刊互引關(guān)系
| 被他刊引用情況 | |
| 期刊名稱 | 引用次數(shù) |
| IEEE T PLASMA SCI | 2237 |
| PHYS PLASMAS | 585 |
| J PHYS D APPL PHYS | 364 |
| PLASMA SOURCES SCI T | 296 |
| J APPL PHYS | 236 |
| AIP ADV | 211 |
| FUSION ENG DES | 209 |
| IEEE ACCESS | 201 |
| IEEE T ELECTRON DEV | 180 |
| PLASMA SCI TECHNOL | 172 |
| 引用他刊情況 | |
| 期刊名稱 | 引用次數(shù) |
| IEEE T PLASMA SCI | 2237 |
| PHYS PLASMAS | 882 |
| J PHYS D APPL PHYS | 759 |
| IEEE T MAGN | 593 |
| J APPL PHYS | 583 |
| PLASMA SOURCES SCI T | 427 |
| APPL PHYS LETT | 341 |
| PHYS REV LETT | 300 |
| REV SCI INSTRUM | 278 |
| IEEE T DIELECT EL IN | 268 |
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