日本應(yīng)用物理學(xué)雜志
國際簡稱：JPN J APPL PHYS
Japanese Journal Of Applied Physics
SCIE
按雜志級別劃分： 中科院1區(qū) 中科院2區(qū) 中科院3區(qū) 中科院4區(qū)
- ISSN：0021-4922
- 創(chuàng)刊時間：1962
- 是否預(yù)警：否
- E-ISSN：1347-4065
- 出版地區(qū)：JAPAN
- 是否OA：未開放
- 出版語言：English
- 出版周期：Monthly
- 影響因子：1.5
- 出版商：Japan Society of Applied Physics
- 審稿周期： 約2.0個月
- CiteScore：3
- H-index：116
- 開源占比：0.0648
- 文章自引率：0.2666...
Japanese Journal Of Applied Physics雜志簡介
Japanese Journal Of Applied Physics是由Japan Society of Applied Physics出版商主辦的物理與天體物理領(lǐng)域的專業(yè)學(xué)術(shù)期刊，自1962年創(chuàng)刊以來，一直以高質(zhì)量的內(nèi)容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號（ISSN：0021-4922，E-ISSN：1347-4065），出版周期Monthly，其出版地區(qū)設(shè)在JAPAN。該期刊的核心使命旨在推動物理與天體物理專業(yè)及PHYSICS, APPLIED學(xué)科界的教育研究與實踐經(jīng)驗的交流，發(fā)表同行有創(chuàng)見的學(xué)術(shù)論文，提倡學(xué)術(shù)爭鳴，激發(fā)學(xué)術(shù)創(chuàng)新，開展國際間學(xué)術(shù)交流，為物理與天體物理領(lǐng)域的發(fā)展注入活力。
該期刊文章自引率0.2666...，開源內(nèi)容占比0.0648，出版撤稿占比0，OA被引用占比0.0835...，讀者群體主要包括物理與天體物理的專業(yè)人員，研究生、本科生以及物理與天體物理領(lǐng)域愛好者，這些讀者群體來自全球各地，具有廣泛的學(xué)術(shù)背景和興趣。Japanese Journal Of Applied Physics已被國際權(quán)威學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫“ SCIE（Science Citation Index Expanded） ”收錄，方便全球范圍內(nèi)的學(xué)者和研究人員檢索和引用，有助于推動PHYSICS, APPLIED領(lǐng)域的研究進(jìn)展和創(chuàng)新發(fā)展。
收錄信息
CiteScore（2024年最新版）
- CiteScore：3
- SJR：0.307
- SNIP：0.631
| 學(xué)科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 大類：Engineering 小類：General Engineering | Q2 | 119 / 307 |
61% |
| 大類：Engineering 小類：General Physics and Astronomy | Q2 | 108 / 243 |
55% |
CiteScore: 這一創(chuàng)新指標(biāo)力求提供更為全面且精確的期刊評估，打破了過去僅依賴單一指標(biāo)如影響因子的局限。它通過綜合廣泛的引用數(shù)據(jù)，跨越多個學(xué)科領(lǐng)域，從而確保了更高的透明度和開放性。作為Scopus中一系列期刊指標(biāo)的重要組成部分，包括SNIP（源文檔標(biāo)準(zhǔn)化影響）、SJR（SCImago雜志排名）、引用文檔計數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標(biāo)，幫助研究者深入了解超過22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個指標(biāo)的詳細(xì)信息。
CiteScore分區(qū)值與影響因子值數(shù)據(jù)對比
Japanese Journal Of Applied Physics中科院分區(qū)表
中科院分區(qū) 2023年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 4區(qū) | PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū) 2022年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 4區(qū) | PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 4區(qū) | PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū) 2021年12月基礎(chǔ)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理 | 4區(qū) | PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū) 2021年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 4區(qū) | PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 4區(qū) | PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)表歷年分布趨勢圖
WOS期刊JCR分區(qū)（2023-2024年最新版）
| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 134 / 179 |
25.4% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 140 / 179 |
22.07% |
JCR（Journal Citation Reports）分區(qū)，也被稱為JCR期刊分區(qū)，是由湯森路透公司（現(xiàn)在屬于科睿唯安公司）制定的一種國際通用和公認(rèn)的期刊分區(qū)標(biāo)準(zhǔn)。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫，按照期刊的影響因子進(jìn)行排序，按照類似等分的方式將期刊劃分為四個區(qū)：Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是，JCR分區(qū)的標(biāo)準(zhǔn)與中科院JCR期刊分區(qū)（又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù)）存在不同之處。例如，兩者的分區(qū)數(shù)量不同，JCR分為四個區(qū)，而中科院分區(qū)則分為176個學(xué)科，每個學(xué)科又按照影響因子高低分為四個區(qū)。此外，兩者的影響因子取值范圍也存在差異。
歷年發(fā)文數(shù)據(jù)
| 年份 | 年發(fā)文量 |
| 2014 | 1437 |
| 2015 | 1166 |
| 2016 | 1373 |
| 2017 | 1147 |
| 2018 | 1395 |
| 2019 | 1260 |
| 2020 | 1143 |
| 2021 | 757 |
| 2022 | 895 |
| 2023 | 839 |
期刊互引關(guān)系
| 被他刊引用情況 | |
| 期刊名稱 | 引用次數(shù) |
| JPN J APPL PHYS | 2672 |
| J APPL PHYS | 365 |
| APPL PHYS EXPRESS | 351 |
| APPL PHYS LETT | 300 |
| J ALLOY COMPD | 230 |
| J PHYS D APPL PHYS | 204 |
| AIP ADV | 199 |
| SCI REP-UK | 194 |
| ECS J SOLID STATE SC | 189 |
| MATER RES EXPRESS | 181 |
| 引用他刊情況 | |
| 期刊名稱 | 引用次數(shù) |
| APPL PHYS LETT | 3617 |
| JPN J APPL PHYS | 2672 |
| J APPL PHYS | 2018 |
| PHYS REV B | 1597 |
| PHYS REV LETT | 893 |
| APPL PHYS EXPRESS | 837 |
| J CRYST GROWTH | 812 |
| IEEE ELECTR DEVICE L | 594 |
| OPT EXPRESS | 576 |
| IEEE T ELECTRON DEV | 565 |
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